沉积前清洗的几种形式


1,辉光清洗(溅射镀膜)

工件上加载负偏压,利用辉光放电产生的氩离子轰击清洗基片。

2,电子束辅助清洗(热阴极离子镀)

利用外加电子束轰击辅助阳极,在此过程中等离子体碰撞,产生大量氩离子。轰击基片溅射清洗

3,金属离子轰击清洗(电弧离子镀)

利用电弧产生的金属离子轰击工件,对基片进行离子轰击溅射清洗,同时能够一定程度的加热工件。

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